由弗朗西斯·克里克研究所主导的国际研究团队携手保罗·谢勒研究所，成功开发出一种创新的成像方案，该方案能够精准捕捉小鼠脑细胞连接的细微结构。这一突破性成果已发表于《自然方法》杂志，为神经科学研究领域带来了新的工具。
研究团队巧妙地将X射线技术与源自航空航天工业的抗辐射材料相结合，创造出一种无需对生物组织样本进行薄切片即可观察神经细胞连接的新方法。体积电子显微镜(volume EM)虽曾是成像大脑内部神经细胞连接的标准，但其处理大型哺乳动物大脑时存在局限。相比之下，X射线因其更强的穿透力，成为研究团队探索的新方向。
在实验中，研究团队采用了一种特殊树脂对染色后的组织进行包埋，这种树脂原本用于保护核反应堆和航天器免受辐射损害。实验结果显示，样品能承受至少20倍于正常辐射强度的辐射，X射线剂量远超对人类致命的水平。利用同步加速器产生的强烈X射线辐射，结合X射线叠层成像技术，研究团队获得了分辨率高达38纳米的图像，清晰展示了小鼠大脑回路的多个关键组成部分。
克里克研究所的安德烈亚斯·舍费尔表示：“体积电镜技术虽具革命性，但在绘制哺乳动物大脑神经元连接图方面存在局限。我们的新方案和抗辐射材料，使我们能够以极高分辨率对脑组织进行成像。”卡莱斯·博世·皮诺尔则透露，团队正不断改进方法，期望扩大视野范围，提高分辨率，为研究大脑等生物组织的功能开辟新路径。
